Selamat datang di situs web kami!

CoFeTaZr Alloy Sputtering Target Lapisan Pvd Film Tipis Kemurnian Tinggi Dibuat Sesuai Pesanan

Besi Kobalt Tantalum Zirkonium

Deskripsi Singkat:

Kategori

Target Sputtering Paduan

Rumus Kimia

CoFeTaZr

Komposisi

Besi Kobalt Tantalum Zirkonium

Kemurnian

99,9%,99,95%,99,99%

Membentuk

Pelat, Target Kolom, katoda busur, Dibuat khusus

Proses produksi

Pencairan Vakum

Ukuran yang Tersedia

L≤200mm,W≤200mm


Rincian produk

Label Produk

Target sputtering Cobalt Iron Tantalum Zirconium dibuat dengan cara peleburan vakum.Proses produksi ini dapat secara efektif melindungi konstituen utama dari oksidasi dan memastikan struktur mikro homogen, ukuran butir seragam, dan konsistensi tinggi dari film yang diendapkan.

Setelah perlakuan panas, PTF target dapat ditingkatkan secara signifikan, sehingga sering digunakan untuk bahan lapisan magnet lunak pada lapisan perekam magnet tegak lurus.

Rich Special Materials mengkhususkan diri dalam Pembuatan Target Sputtering dan dapat memproduksi Bahan Sputtering Cobalt Iron Tantalum Zirconium sesuai dengan spesifikasi Pelanggan.Untuk informasi lebih lanjut, silakan hubungi kami.


  • Sebelumnya:
  • Berikutnya: