CoFeV Alloy Sputtering Target Lapisan Pvd Film Tipis Kemurnian Tinggi Dibuat Sesuai Pesanan

Target sputtering Cobalt Iron Vanadium memiliki 52% kandungan Cobalt, 9% -23% kandungan Vanadium dan sisanya - bahan magnet permanen yang ulet.Ini menunjukkan kapasitas deformasi plastis yang sangat baik dan dapat dibuat menjadi komponen dengan bentuk yang rumit.

Target sputtering paduan Cobalt Iron Vanadium memiliki kerapatan fluks saturasi yang sangat tinggi Bs(2,4T) dan suhu Curie (980~1100℃).Ini dapat membantu penurunan berat badan dan dapat meningkatkan stabilitas pada suhu tinggi.Ini adalah bahan yang cocok untuk peralatan listrik penerbangan (mesin listrik khusus kecil, elektromagnet dan relai listrik).Ia juga memiliki koefisien magnetostriksi saturasi yang tinggi, dan dapat menghasilkan transduser magnetostriktif.

Rich Special Materials mengkhususkan diri dalam Pembuatan Target Sputtering dan dapat memproduksi Bahan Sputtering Cobalt Iron Vanadium sesuai dengan spesifikasi Pelanggan.Untuk informasi lebih lanjut, silakan hubungi kami.