Bangunan modern mulai menggunakan pencahayaan kaca area yang luas.Aspek ini memberi kita ruangan yang lebih terang dan cakrawala yang lebih luas.Di sisi lain, panas yang ditransmisikan melalui kaca jauh lebih tinggi dibandingkan dinding di sekitarnya, dan konsumsi energi seluruh bangunan meningkat secara signifikan..
Dibandingkan dengan tingkat pemanfaatan lebih dari 90% kaca radiasi rendah di negara maju, tingkat penetrasi kaca rendah E di Tiongkok hanya sekitar 12%, dan Tiongkok masih memiliki banyak ruang untuk pengembangan.Namun, dibandingkan dengan kaca biasa dan kaca low-E online, biaya produksi kaca LowE offline tinggi, yang membatasi penerapan sampai tingkat tertentu. Perusahaan pengolahan kaca dalam negeri mempunyai kewajiban untuk terus mengurangi biaya produksi produk pelapis, mempercepat implementasi, menghemat energi, memperbaiki lingkungan, dan mencapai pembangunan sosial yang berkelanjutan.
1、Pengaruh bentuk target
Area pelapisan yang luas sering kali menggunakan bahan target sesuai bentuknya, termasuk orientasi planar dan orientasi rotasi.Target planar umum meliputi target tembaga, target perak,Ntarget i-Cr dan target grafit.Target berputar umum memiliki target seng aluminium, target seng timah, target aluminium silikon, target timah, target titanium oksida, target aluminium seng oksida dan sebagainya. Bentuk target akan mempengaruhi stabilitas dan sifat film lapisan sputtering magnetron, dan pemanfaatannya. tingkat target sangat tinggi.Setelah mengubah bentuk perencanaan target, kualitas dan kekuatan produksi pelapisan dapat ditingkatkan dan biaya dapat dihemat.
2、Pengaruh kepadatan relatif dan jarak bebas target
Kepadatan relatif dalam target adalah rasio kepadatan praktis dengan kepadatan teoritis target, kepadatan teoritis dari target komponen tunggal adalah kepadatan kristal, dan kepadatan teoritis dari target paduan atau campuran dihitung sesuai dengan teoritis. kepadatan setiap elemen dan proporsi dalam paduan atau campuran..Susunan target penyemprot termal berpori, sangat teroksigenasi (bahkan dengan semprotan vakum, produksi oksida dan senyawa nitro dalam target paduan tidak dapat dihindari), dan tampilannya berwarna abu-abu serta tidak memiliki kilau logam.Kotoran dan kelembapan yang terserap adalah sumber utama polusi.
3、Pengaruh ukuran partikel target dan arah kristal
Pada bobot target yang sama, target dengan ukuran partikel kecil lebih cepat dibandingkan target dengan ukuran partikel besar.Hal ini terutama karena batas partikel pada proses percikan mudah ditembus, semakin banyak batas partikel maka semakin cepat pembentukan film.Ukuran partikel tidak hanya mempengaruhi kecepatan sputtering, tetapi juga mempengaruhi kualitas pembentukan film. Misalnya, dalam proses produksi produk EowE, NCr bertindak sebagai lapisan pemeliharaan lapisan reflektif inframerah Ag, dan kualitasnya mempunyai pengaruh besar pada produk pelapis.Karena koefisien kepunahan lapisan film NiCr yang besar, umumnya tipis (sekitar 3nm). Jika ukuran partikel terlalu besar, waktu sputtering menjadi lebih pendek, densifikasi lapisan film menjadi lebih buruk, dan efek pemeliharaan lapisan Ag berkurang, dan penguraian oksidasi pada produk pelapis terjadi.
kesimpulan
Perencanaan bentuk material target terutama mempengaruhi tingkat pemanfaatan material target.Perencanaan ukuran yang wajar dapat meningkatkan tingkat pemanfaatan bahan target dan menghemat biaya. Semakin kecil ukuran partikel, semakin cepat kecepatan pelapisan, semakin baik keseragamannya.Semakin tinggi kemurnian dan kepadatan, semakin rendah porositasnya, semakin baik kualitas filmnya, dan semakin rendah kemungkinan pengurangan terak buangan.
Waktu posting: 27 April-2022