Selamat datang di situs web kami!

NiCrCu Sputtering Target Lapisan Pvd Film Tipis Kemurnian Tinggi Dibuat Sesuai Pesanan

Tembaga Nikel Kromium

Deskripsi Singkat:

Kategori

Target Sputtering Paduan

Rumus Kimia

NiCrCu

Komposisi

Tembaga nikel kromium

Kemurnian

99,5%,99,7%,99,9%,99,99%

Membentuk

Pelat, Target Kolom, katoda busur, Dibuat khusus

Proses produksi

Pencairan Vakum

Ukuran yang Tersedia

L≤2000mm, L≤350mm


Rincian produk

Label Produk

Target NiCrCu Sputtering dihasilkan melalui Peleburan dan Pengecoran bahan baku Tembaga Nikel Kromium.Ia memiliki resistivitas tinggi, koefisien suhu rendah dan sensitivitas tinggi.Nikel dan Kromium memiliki energi permukaan yang serupa, dan komposisi pengendapan film tipis NiCrCu mirip dengan target sputtering, sehingga hasil pengendapan mudah dikontrol.

Bahan Khusus Kaya mengkhususkan diri dalam Pembuatan Target Sputtering dan dapat memproduksi Bahan Sputtering Tembaga Nikel Kromium sesuai dengan spesifikasi Pelanggan.Untuk informasi lebih lanjut, silakan hubungi kami.


  • Sebelumnya:
  • Berikutnya: