Grosir TiAl Sputtering Target Lapisan Pvd Film Tipis Kemurnian Tinggi Produsen dan Pemasok Buatan Khusus |Kaya

Titanium Aluminium

TiAl Sputtering Target Lapisan Pvd Film Tipis Kemurnian Tinggi Dibuat Sesuai Pesanan Gambar Unggulan

Deskripsi Singkat:

Kategori	Target Sputtering Paduan
Rumus Kimia	TiAl
Komposisi	Titanium Aluminium
Kemurnian	99,9%,99,95%,99,99%
Membentuk	Pelat, Target Kolom, katoda busur, Dibuat khusus
Proses produksi	Peleburan Vakum, PM
Ukuran yang Tersedia	L≤2000mm, L≤200mm

Kirim email ke kami

Rincian produk

Label Produk

Video

Deskripsi Target Sputtering Aluminium Titanium

Persyaratan kualitas target untuk pelapisan sputter lebih tinggi dibandingkan dengan industri bahan tradisional.Struktur mikro target yang seragam secara langsung mempengaruhi kinerja sputtering.Kami memiliki sistem manajemen mutu yang lengkap dan kami memilih bahan mentah dengan kemurnian tinggi dan memadukannya secara menyeluruh untuk memastikan homogenitas.Target sputtering paduan Titanium Aluminium diproduksi dengan metode pengepresan vakum panas.

Target sputtering Titanium Aluminium kami dapat menghasilkan lapisan nitrida tahan oksidasi yang luar biasa, Titanium aluminium nitrida (TiAlN).TiAlN adalah film mainstream saat ini sebagai film untuk alat pemotong, komponen geser, dan pelapis tribo.Ini memiliki kekerasan tinggi, ketangguhan, kinerja tahan aus dan suhu oksidasi.

Target khas TiAl kami dan propertinya

	Ti-75Al pada%	Ti-70Al pada%	Ti-67Al pada%	Ti-60Al pada%	Ti-50Al pada%	Ti-30Al pada%	Ti-20Al pada%	Ti-14Al pada%
Kemurnian (%)	99,7	99,7	99,7	99,7	99.8/99.9	99.9	99.9	99.9
Kepadatan（gram/cm³）	3.1	3.2	3.3	3.4	3.63/3.85	3.97	4.25	4.3
Ghujan Ukuran(µm)	100	100	100	100	100/-	-	-	-
Proses	PANGGUL	PANGGUL	PANGGUL	PANGGUL	PANGGUL/VAR	VAR	VAR	VAR

Kemasan Target Sputtering Aluminium Titanium

Target sputter Titanium Aluminium kami ditandai dengan jelas dan diberi label secara eksternal untuk memastikan identifikasi dan kontrol kualitas yang efisien.Perhatian besar diberikan untuk menghindari kerusakan apa pun yang mungkin terjadi selama penyimpanan atau transportasi.

Dapatkan Kontak

Target sputtering Titanium Aluminium RSM memiliki kemurnian dan seragam yang sangat tinggi.Mereka tersedia dalam berbagai bentuk, kemurnian, ukuran, dan harga.
Kami dapat menyediakan berbagai bentuk geometris: tabung, katoda busur, planar atau dibuat khusus, dan berbagai macam Aluminium.Produk kami memiliki sifat mekanik yang sangat baik, struktur mikro yang homogen, permukaan yang dipoles tanpa segregasi, pori-pori, atau retakan.
Kami mengkhususkan diri dalam memproduksi bahan pelapis film tipis dengan kemurnian tinggi dengan kinerja luar biasa serta kepadatan setinggi mungkin dan ukuran butir rata-rata sekecil mungkin untuk digunakan dalam pelapisan cetakan, dekorasi, suku cadang mobil, kaca E rendah, sirkuit terpadu semi-konduktor, film tipis resistensi, tampilan grafis, dirgantara, rekaman magnetik, layar sentuh, baterai surya film tipis dan aplikasi pengendapan uap fisik (PVD) lainnya.Silakan kirimkan pertanyaan kepada kami untuk mengetahui harga terkini mengenai target sputtering dan bahan pengendapan lainnya yang tidak tercantum.