AlSi Alloy Sputtering Target Lapisan PVD Film Tipis Kemurnian Tinggi Dibuat Sesuai Pesanan

Sasaran dibuat dengan mencampurkan bubuk Aluminium dan Silikon diikuti dengan pemadatan hingga kepadatan penuh.Bahan yang dipadatkan tersebut secara opsional disinter dan kemudian dibentuk menjadi bentuk target yang diinginkan.Target sputtering Aluminium Silicon kami tersedia dalam bentuk geometris persegi panjang, lingkaran, atau dibuat khusus, kandungan Aluminium dari 10-90% atom, dan memiliki kemurnian tinggi, struktur mikro homogen, kepadatan tinggi, dan masa pakai yang lama.

Aluminium Silicon banyak digunakan dalam industri otomotif, pesawat terbang, dan konstruksi karena kombinasi unik dari karakteristik yang diinginkan, termasuk bobot yang ringan, konduktivitas termal yang baik, dan sifat mekanik.Kepadatan bahan ini adalah 2,6~2,7g/cm3, koefisien konduktivitas termal 101~126W/(m·℃), modulus tarik 71,0GPa, batas kelelahan ±45MPa.Paduan aluminium-silikon juga memiliki ketahanan terhadap korosi, kemampuan mesin, dan kemampuan las yang sangat baik.Paduan aluminium-silikon digunakan dalam berbagai aplikasi otomotif, ruang angkasa, dan produk konsumen, seperti blok mesin dan pelapis silinder, piston, bahan paduan bantalan, dan komponen elektronik konsumen.+2.Ini memiliki titik leleh, keuletan, kekerasan, dan ketahanan korosi yang tinggi.