Seperti kita ketahui bersama, spesifikasi target sputtering sangat banyak, dan bidang penerapannya juga sangat luas.Jenis target yang biasa digunakan di berbagai bidang juga berbeda.Hari ini, mari pelajari klasifikasi bidang aplikasi target sputtering dengan editor RSM!
1[UNK] Definisi target sputtering
Sputtering adalah salah satu teknologi utama untuk menyiapkan bahan film tipis.Ia menggunakan ion-ion yang dihasilkan oleh sumber ion untuk mempercepat dan berkumpul dalam ruang hampa untuk membentuk berkas ion berkecepatan tinggi, membombardir permukaan padat, dan ion-ion bertukar energi kinetik dengan atom-atom pada permukaan padat, sehingga atom-atom pada padatan permukaan dipisahkan dari padatan dan diendapkan pada permukaan substrat.Padatan yang dibombardir merupakan bahan baku pembuatan film tipis yang diendapkan dengan cara sputtering, yang disebut target sputtering.
2[UNK] Klasifikasi bidang aplikasi target sputtering
1. Sasaran semikonduktor
(1) Target umum: target umum di bidang ini mencakup logam dengan titik leleh tinggi seperti tantalum/tembaga/titanium/aluminium/emas/nikel.
(2) Penggunaan: terutama digunakan sebagai bahan baku utama untuk sirkuit terpadu.
(3) Persyaratan kinerja: persyaratan teknis yang tinggi untuk kemurnian, ukuran, integrasi, dll.
2. Target untuk tampilan panel datar
(1) Target umum: target umum di bidang ini meliputi aluminium/tembaga/molibdenum/nikel/Niobium/silikon/kromium, dll.
(2) Penggunaan: target semacam ini banyak digunakan untuk berbagai jenis film berukuran besar seperti TV dan notebook.
(3) Persyaratan kinerja: persyaratan tinggi untuk kemurnian, area yang luas, keseragaman, dll.
3. Bahan sasaran sel surya
(1) Target umum: aluminium/tembaga/molibdenum/kromium/ITO/Ta dan target lain untuk sel surya.
(2) Penggunaan: terutama digunakan pada "lapisan jendela", lapisan penghalang, elektroda dan film konduktif.
(3) Persyaratan kinerja: persyaratan teknis yang tinggi dan jangkauan aplikasi yang luas.
4. Target penyimpanan informasi
(1) Target umum: target umum kobalt/nikel/ferroalloy/kromium/telurium/selenium dan bahan lain untuk penyimpanan informasi.
(2) Penggunaan: bahan target semacam ini terutama digunakan untuk kepala magnet, lapisan tengah dan lapisan bawah drive optik dan cakram optik.
(3) Persyaratan kinerja: diperlukan kepadatan penyimpanan yang tinggi dan kecepatan transmisi yang tinggi.
5. Sasaran modifikasi alat
(1) Target umum: target umum seperti paduan titanium/zirkonium/aluminium kromium yang dimodifikasi dengan alat.
(2) Penggunaan: biasanya digunakan untuk penguatan permukaan.
(3) Persyaratan kinerja: persyaratan kinerja tinggi dan masa pakai yang lama.
6. Target untuk perangkat elektronik
(1) Target umum: target paduan aluminium / silisida umum untuk perangkat elektronik
(2) Tujuan: umumnya digunakan untuk resistor dan kapasitor film tipis.
(3) Persyaratan kinerja: ukuran kecil, stabilitas, koefisien suhu resistansi rendah
Waktu posting: 27 Juli-2022