1. Metode sputtering magnetron:
Sputtering magnetron dapat dibagi menjadi sputtering DC, sputtering frekuensi menengah, dan sputtering RF
A. Catu daya sputtering DC murah dan kepadatan film yang disimpan buruk.Umumnya, baterai fototermal dan film tipis dalam negeri digunakan dengan energi rendah, dan target sputtering adalah target logam konduktif.
B. Energi sputtering RF tinggi, dan target sputtering dapat berupa target non-konduktif atau target konduktif.
C. Target sputtering frekuensi menengah dapat berupa target keramik atau target logam.
2. Klasifikasi dan penerapan target sputtering
Target sputtering ada banyak macamnya, dan metode klasifikasi targetnya juga berbeda-beda.Berdasarkan bentuknya, sasaran dibedakan menjadi sasaran panjang, sasaran persegi dan sasaran bulat;Berdasarkan komposisinya, dapat dibagi menjadi target logam, target paduan dan target senyawa keramik;Menurut bidang aplikasi yang berbeda, dapat dibagi menjadi target keramik terkait semikonduktor, target keramik medium perekam, target keramik tampilan, dll. Target sputtering terutama digunakan dalam industri elektronik dan informasi, seperti industri penyimpanan informasi.Dalam industri ini, target sputtering digunakan untuk menyiapkan produk film tipis yang relevan (hard disk, kepala magnetik, cakram optik, dll.).Saat sekarang.Dengan terus berkembangnya industri informasi, permintaan akan target keramik medium perekam di pasar semakin meningkat.Penelitian dan produksi rekaman target menengah telah menjadi fokus perhatian yang luas.
Waktu posting: 11 Mei-2022