Saat ini, hampir semua target tembaga logam dengan kemurnian sangat tinggi yang dibutuhkan oleh industri IC dimonopoli oleh beberapa perusahaan multinasional besar asing.Semua target tembaga ultra murni yang dibutuhkan oleh industri IC dalam negeri perlu diimpor, yang tidak hanya mahal, tetapi juga prosedur impornya rumit. Oleh karena itu, Tiongkok perlu segera meningkatkan pengembangan dan verifikasi target sputtering tembaga dengan kemurnian sangat tinggi (6N). .Mari kita lihat poin-poin penting dan kesulitan dalam pengembangan target sputtering tembaga dengan kemurnian sangat tinggi (6N).
1、Pengembangan bahan dengan kemurnian sangat tinggi
Teknologi pemurnian logam Cu, Al dan Ta dengan kemurnian tinggi di China masih jauh dibandingkan di negara industri maju.Saat ini, sebagian besar logam dengan kemurnian tinggi yang dapat disediakan tidak dapat memenuhi persyaratan kualitas sirkuit terpadu untuk target sputtering menurut metode analisis semua elemen konvensional di industri.Jumlah inklusi dalam target terlalu tinggi atau tidak merata.Partikel sering terbentuk pada wafer selama sputtering, mengakibatkan hubungan pendek atau sirkuit terbuka pada interkoneksi, yang sangat mempengaruhi kinerja film.
2、Pengembangan teknologi persiapan target sputtering tembaga
Perkembangan teknologi preparasi target sputtering tembaga terutama berfokus pada tiga aspek: ukuran butir, kontrol orientasi, dan keseragaman.Industri semikonduktor memiliki persyaratan tertinggi untuk target sputtering dan penguapan bahan mentah.Ini memiliki persyaratan yang sangat ketat untuk mengontrol ukuran butir permukaan dan orientasi kristal target.Ukuran butir target harus dikontrol pada 100μ M di bawah, oleh karena itu, pengendalian ukuran butir serta cara analisis dan deteksi korelasi sangat penting untuk pengembangan target logam.
3、Pengembangan analisis danpengujian teknologi
Kemurnian target yang tinggi berarti pengurangan pengotor.Di masa lalu, plasma berpasangan induktif (ICP) dan spektrometri serapan atom digunakan untuk menentukan pengotor, namun dalam beberapa tahun terakhir, analisis kualitas pelepasan cahaya (GDMS) dengan sensitivitas lebih tinggi telah secara bertahap digunakan sebagai standar. metode.Metode RRR rasio resistansi sisa terutama digunakan untuk penentuan kemurnian listrik.Prinsip penentuannya adalah mengevaluasi kemurnian logam dasar dengan mengukur tingkat dispersi pengotor secara elektronik.Karena untuk mengukur resistansi pada suhu kamar dan suhu yang sangat rendah, maka mudah untuk mengambil angkanya.Dalam beberapa tahun terakhir, untuk mengeksplorasi esensi logam, penelitian tentang kemurnian sangat tinggi sangat aktif.Dalam hal ini, nilai RRR adalah cara terbaik untuk mengevaluasi kemurnian.
Waktu posting: 06-Mei-2022