Dengan peningkatan standar hidup masyarakat dan perkembangan ilmu pengetahuan dan teknologi yang berkelanjutan, masyarakat memiliki persyaratan yang semakin tinggi terhadap kinerja produk pelapis dekorasi yang tahan aus, tahan korosi, dan tahan suhu tinggi.Tentunya pelapis juga dapat mempercantik warna benda tersebut.Lalu apa perbedaan perlakuan target elektroplating dan target sputtering?Biarkan pakar dari Departemen Teknologi RSM menjelaskannya untuk Anda.
Target pelapisan listrik
Prinsip pelapisan listrik konsisten dengan prinsip pemurnian tembaga secara elektrolitik.Saat pelapisan listrik, elektrolit yang mengandung ion logam pada lapisan pelapisan umumnya digunakan untuk menyiapkan larutan pelapisan;Merendam produk logam yang akan dilapisi ke dalam larutan pelapis dan menghubungkannya dengan elektroda negatif catu daya DC sebagai katoda;Logam yang dilapisi digunakan sebagai anoda dan dihubungkan ke elektroda positif catu daya DC.Ketika arus DC tegangan rendah diterapkan, logam anoda larut dalam larutan dan menjadi kation dan berpindah ke katoda.Ion-ion ini memperoleh elektron di katoda dan direduksi menjadi logam, yang ditutupi pada produk logam yang akan disepuh.
Target Tergagap
Prinsipnya terutama menggunakan pelepasan cahaya untuk membombardir ion argon pada permukaan target, dan atom target dikeluarkan dan diendapkan pada permukaan substrat untuk membentuk film tipis.Sifat dan keseragaman film yang tergagap lebih baik daripada film yang diendapkan dengan uap, tetapi kecepatan pengendapannya jauh lebih lambat dibandingkan dengan film yang diendapkan dengan uap.Peralatan sputtering baru hampir menggunakan magnet yang kuat pada spiral elektron untuk mempercepat ionisasi argon di sekitar target, yang meningkatkan kemungkinan tumbukan antara target dan ion argon serta meningkatkan laju sputtering.Sebagian besar film pelapis logam adalah sputtering DC, sedangkan bahan magnetik keramik non-konduktif adalah sputtering RF AC.Prinsip dasarnya adalah menggunakan pelepasan cahaya dalam ruang hampa untuk membombardir permukaan target dengan ion argon.Kation-kation dalam plasma akan berakselerasi menuju permukaan elektroda negatif sebagai bahan yang tergagap.Pengeboman ini akan membuat material target terbang keluar dan mengendap di substrat membentuk lapisan tipis.
Kriteria pemilihan bahan sasaran
(1) Target harus memiliki kekuatan mekanik dan stabilitas kimia yang baik setelah pembentukan film;
(2) Bahan film untuk film sputtering reaktif harus mudah membentuk film gabungan dengan gas reaksi;
(3) Target dan substrat harus dirakit dengan kuat, jika tidak, bahan film dengan kekuatan pengikatan yang baik dengan substrat harus digunakan, dan film bagian bawah harus disemprotkan terlebih dahulu, dan kemudian lapisan film yang diperlukan harus disiapkan;
(4) Dengan alasan memenuhi persyaratan kinerja film, semakin kecil perbedaan antara koefisien ekspansi termal target dan substrat, semakin baik, sehingga mengurangi pengaruh tekanan termal dari film yang tergagap;
(5) Sesuai dengan persyaratan penerapan dan kinerja film, target yang digunakan harus memenuhi persyaratan teknis kemurnian, kandungan pengotor, keseragaman komponen, akurasi pemesinan, dll.
Waktu posting: 12 Agustus-2022