Bahan target yang digunakan dalam industri penyimpanan data memerlukan kemurnian tinggi, dan kotoran serta pori-pori harus diminimalkan untuk menghindari terbentuknya partikel pengotor selama sputtering.Bahan target yang digunakan untuk produk berkualitas tinggi mengharuskan ukuran partikel kristalnya harus kecil dan seragam, serta tidak memiliki orientasi kristal.Di bawah ini, mari kita lihat persyaratan industri penyimpanan optik untuk material target?
1. Kemurnian
Dalam aplikasi praktis, kemurnian bahan target bervariasi sesuai dengan industri dan kebutuhan yang berbeda.Namun, secara keseluruhan, semakin tinggi kemurnian bahan target, semakin baik kinerja film yang tergagap.Misalnya, dalam industri penyimpanan optik, kemurnian bahan target harus lebih besar dari 3N5 atau 4N
2. Kandungan pengotor
Bahan target berfungsi sebagai sumber katoda dalam sputtering, dan pengotor pada padatan serta oksigen dan uap air di pori-pori merupakan sumber polusi utama untuk pengendapan film tipis.Selain itu, ada persyaratan khusus untuk target kegunaan yang berbeda.Mengambil contoh industri penyimpanan optik, kandungan pengotor dalam target sputtering harus dikontrol sangat rendah untuk menjamin kualitas lapisan.
3. Ukuran butir dan distribusi ukuran
Biasanya bahan target memiliki struktur polikristalin, dengan ukuran butir mulai dari mikrometer hingga milimeter.Untuk target dengan komposisi yang sama, laju sputtering target berbutir halus lebih cepat dibandingkan target berbutir kasar.Untuk target dengan perbedaan ukuran butir yang lebih kecil, ketebalan film yang diendapkan juga akan lebih seragam.
4. Kekompakan
Untuk mengurangi porositas pada bahan target padat dan meningkatkan kinerja film, umumnya bahan target sputtering harus memiliki kepadatan yang tinggi.Kepadatan bahan target terutama bergantung pada proses persiapan.Bahan target yang diproduksi dengan metode peleburan dan pengecoran dapat memastikan tidak ada pori-pori di dalam bahan target dan kepadatannya sangat tinggi.
Waktu posting: 18 Juli 2023