Bahan target niobium terutama digunakan dalam pelapisan optik, pelapisan bahan rekayasa permukaan, dan industri pelapisan seperti tahan panas, tahan korosi, dan konduktivitas tinggi.Di bidang pelapisan optik, hal ini terutama diterapkan pada produk optik mata, lensa, optik presisi, pelapisan area luas, pelapisan 3D, dan aspek lainnya.
Bahan target niobium biasanya disebut target telanjang.Pertama-tama dilas ke target belakang tembaga, dan kemudian disemprotkan untuk menyimpan atom niobium dalam bentuk oksida pada bahan substrat, sehingga menghasilkan lapisan sputtering.Dengan pendalaman dan perluasan teknologi dan penerapan target niobium secara terus-menerus, persyaratan keseragaman struktur mikro target niobium telah meningkat, terutama diwujudkan dalam tiga aspek: penyempurnaan ukuran butir, tidak adanya orientasi tekstur yang jelas, dan peningkatan kemurnian kimia.
Distribusi struktur mikro dan properti yang seragam di seluruh target sangat penting untuk memastikan kinerja sputtering bahan target niobium.Permukaan target niobium yang ditemui dalam produksi industri biasanya menunjukkan pola yang teratur, yang sangat mempengaruhi kinerja sputtering target.Bagaimana kita dapat meningkatkan tingkat pemanfaatan target?
Melalui penelitian ditemukan bahwa kandungan pengotor (kemurnian target) merupakan faktor penting yang mempengaruhi kemurnian.Komposisi kimia bahan bakunya tidak merata, dan pengotornya diperkaya.Setelah pemrosesan penggulungan selanjutnya, pola teratur terbentuk pada permukaan bahan target niobium;Menghilangkan distribusi komponen bahan mentah yang tidak merata dan pengayaan pengotor dapat menghindari pembentukan pola teratur pada permukaan target niobium.Pengaruh ukuran butir dan komposisi struktur pada bahan target hampir dapat diabaikan.
Waktu posting: 19 Juni 2023