Meluasnya penggunaan material target di berbagai profesi membuat permintaan terhadap material target semakin tinggi.Pengikut Kami akan perkenalkan secara singkat Anda apa persyaratan fungsional utama dari target, hoping untuk membantumu.
Kemurnian: Kemurnian adalah salah satu indikator fungsional utama target, karena kemurnian target berdampak besar pada fungsi film.Namun dalam praktiknya, kemurnian bahan target tidak sama.Misalnya, dengan pesatnya pertumbuhan profesi mikroelektronika,Ukuran wafer silikon telah berkembang dari 6”, 8” menjadi 12″, dan lebar kabel menurun dari 0,5um menjadi 0,25um, 0,18um, dan bahkan 0,13um.Setelah 99,995% kemurnian target dapat memenuhi persyaratan teknologi 0,35UMIC.Persiapan garis 0,18um membutuhkan kemurnian bahan target 99,999% atau bahkan 99,9999%.
Kepadatan: Untuk mengurangi porositas padatan target dan meningkatkan fungsi film sputtering, target biasanya diharuskan memiliki kepadatan yang tinggi.Kepadatan target tidak hanya mempengaruhi laju sputtering tetapi juga sifat listrik dan optik film.Semakin tinggi kepadatan target, semakin baik fungsi film tersebut. Selain itu, kepadatan dan kekuatan material target ditingkatkan agar lebih mampu menahan tekanan termal selama sputtering.Kepadatan juga merupakan salah satu indikator fungsional penting dari zat target.
Kandungan pengotor: pengotor dalam padatan target dan oksigen serta uap air di pori-pori adalah sumber polusi utama dari akumulasi film. Bahan target yang berbeda untuk tujuan yang berbeda memiliki persyaratan yang berbeda untuk kandungan pengotor yang berbeda.Misalnya, target aluminium murni dan paduan aluminium yang digunakan dalam industri semikonduktor memiliki persyaratan khusus untuk kandungan logam alkali dan kandungan unsur radioaktif.
Waktu posting: 06 Juni 2022