Banyak produsen kaca ingin mengembangkan produk baru dan meminta saran dari departemen teknis kami mengenai target pelapisan kaca.Berikut pengetahuan relevan yang dirangkum oleh departemen teknis RSM:
Penerapan target sputtering pelapis kaca dalam industri kaca terutama untuk membuat kaca berlapis radiasi rendah.Selanjutnya, menggunakan prinsip sputtering magnetron untuk menyemprotkan film multi-lapis pada kaca untuk mencapai peran hemat energi, kontrol cahaya, dan dekorasi.
Kaca berlapis radiasi rendah juga dikenal sebagai kaca hemat energi.Dalam beberapa tahun terakhir, dengan meningkatnya konservasi energi dan pengurangan emisi, serta peningkatan kualitas hidup, kaca bangunan tradisional secara bertahap digantikan oleh kaca hemat energi.Hal ini didorong oleh permintaan pasar sehingga hampir semua perusahaan pengolahan kaca besar dengan cepat meningkatkan lini produksi kaca berlapis.
Sejalan dengan itu, permintaan bahan sasaran untuk pelapis kaca meningkat pesat.Bahan target sputtering untuk pelapis kaca terutama mencakup target sputtering kromium, target sputtering titanium, target sputtering nikel kromium, target sputtering aluminium silikon, dan sebagainya.Rincian lebih lanjut adalah sebagai berikut:
Target Sputtering Kromium
Target sputtering kromium banyak digunakan dalam pelapisan alat perangkat keras, pelapis dekoratif, dan pelapis layar datar.Pelapisan perangkat keras digunakan dalam berbagai aplikasi mekanis dan metalurgi seperti perkakas robot, perkakas pembubutan, cetakan (casting, stamping).Ketebalan film umumnya 2 ~ 10um, dan memerlukan kekerasan tinggi, keausan rendah, ketahanan benturan, dan ketahanan terhadap guncangan termal dan sifat adhesi tinggi.Sekarang, target sputtering kromium umumnya diterapkan di industri pelapisan kaca.Aplikasi yang paling penting adalah persiapan kaca spion otomotif.Dengan meningkatnya kebutuhan kaca spion otomotif, banyak perusahaan telah beralih dari proses aluminisasi asli ke proses kromium sputtering vakum.
Sasaran Sputtering Titanium
Target sputtering titanium biasanya digunakan dalam pelapisan alat perangkat keras, pelapis dekoratif, komponen semikonduktor, dan pelapis layar datar.Ini adalah salah satu bahan inti untuk mempersiapkan sirkuit terpadu, dan kemurnian yang dibutuhkan biasanya lebih dari 99,99%.
Target Sputtering Nikel Kromium
Target sputtering nikel kromium banyak digunakan dalam produksi nikel spons dan area pelapis dekoratif. Ini dapat membentuk lapisan dekoratif pada permukaan keramik atau fabrikasi perangkat dalam sirkuit lapisan solder ketika diuapkan dalam ruang hampa.
Target Sputtering Aluminium Silikon
Target sputtering aluminium silikon dapat diterapkan dalam tampilan semikonduktor, deposisi uap kimia (CVD), deposisi uap fisik (PVD).
Aplikasi penting lainnya dari bahan target kaca adalah untuk menyiapkan kaca spion mobil, terutama termasuk target kromium, target aluminium, target titanium oksida.Dengan peningkatan terus-menerus dalam persyaratan kualitas kaca spion otomotif, banyak perusahaan telah berubah dari proses pelapisan aluminium asli ke proses pelapisan kromium sputtering vakum.
Rich Special Materials Co., Ltd.(RSM) sebagai produsen target sputtering, kami tidak hanya menyediakan target sputtering untuk kaca tetapi juga target sputtering untuk bidang lainnya.Seperti target sputtering logam murni, target sputtering paduan, target sputtering oksida keramik dan sebagainya.
Waktu posting: 25 Okt-2022