1[UNK] Persiapan penyemprotan
Sangat penting untuk menjaga ruang vakum, terutama sistem sputtering tetap bersih.Residu apa pun yang terbentuk dari minyak pelumas, debu, dan lapisan sebelumnya akan mengumpulkan uap air dan polutan lainnya, yang secara langsung akan mempengaruhi tingkat vakum dan meningkatkan kemungkinan kegagalan pembentukan film.Hubungan pendek atau busur target, permukaan film yang kasar dan kandungan pengotor kimia yang berlebihan sering kali disebabkan oleh ruang sputtering, pistol sputtering, dan target yang tidak bersih.Untuk mematuhi karakteristik komposisi lapisan, gas sputtering (argon atau oksigen) perlu dibersihkan dan dikeringkan.Setelah substrat dipasang di ruang sputtering, udara perlu diekstraksi untuk mencapai vakum yang dibutuhkan oleh proses tersebut.Penutup pelindung di area gelap, dinding rongga dan permukaan yang berdekatan juga perlu dijaga kebersihannya.Saat membersihkan ruang vakum, kami menganjurkan penggunaan peledakan bola kaca untuk menangani bagian yang berdebu, bersama dengan udara bertekanan untuk menghilangkan residu sputtering awal di sekitar ruang, dan kemudian diam-diam memoles permukaan luar dengan amplas yang diresapi alumina.Setelah kertas kasa dipoles, kertas tersebut dibersihkan dengan alkohol, aseton, dan air deionisasi.Bersama-sama, mereka menganjurkan penggunaan penyedot debu industri untuk pembersihan tambahan.Target yang dihasilkan oleh logam Gaozhan dikemas dalam kantong plastik tertutup vakum,
Dibangun pada agen tahan lembab.Saat menggunakan target, mohon jangan menyentuh target secara langsung dengan tangan Anda.Catatan: saat menggunakan target, harap kenakan sarung tangan perawatan yang bersih dan bebas serat.Jangan pernah menyentuh target secara langsung dengan tangan Anda
2、 Sasaran pembersihan
Tujuan dari pembersihan target adalah untuk menghilangkan debu atau kotoran yang mungkin ada pada permukaan target.
Target logam dapat dibersihkan dalam empat langkah,
Langkah pertama adalah membersihkan dengan kain lembut tidak berbulu yang dibasahi aseton;
Langkah kedua mirip dengan langkah pertama, membersihkan dengan alkohol;
Langkah 3: bersihkan dengan air deionisasi.Setelah dicuci dengan air deionisasi, masukkan target ke dalam oven dan keringkan pada suhu 100 ℃ selama 30 menit.
Pembersihan target oksida dan keramik harus dilakukan dengan “kain bebas serat”.
Langkah keempat adalah mencuci target dengan argon dengan tekanan tinggi dan gas air rendah setelah menghilangkan area yang berdebu, sehingga dapat menghilangkan semua partikel pengotor yang dapat membentuk busur pada sistem sputtering.
3、 Perangkat sasaran
Dalam proses pemasangan target, tindakan pencegahan penting adalah memastikan sambungan konduksi termal yang baik antara target dan dinding pendingin pistol sputtering.Jika lengkungan paranada pendingin parah atau lengkungan pelat belakang parah, perangkat target akan retak atau bengkok, dan konduktivitas termal dari target belakang ke target akan sangat terpengaruh, yang mengakibatkan kegagalan pembuangan panas. dalam proses sputtering, dan target akan retak atau meleset
Untuk memastikan konduktivitas termal, lapisan kertas grafit dapat ditempatkan di antara dinding pendingin katoda dan target.Harap perhatikan dengan cermat untuk memeriksa dengan cermat dan memperjelas kerataan dinding pendingin pistol sputtering yang digunakan untuk memastikan bahwa O-ring selalu berada di tempatnya.
Karena kebersihan air pendingin yang digunakan dan debu yang mungkin timbul selama pengoperasian peralatan akan mengendap di tangki air pendingin katoda, maka perlu dilakukan pengecekan dan pembersihan tangki air pendingin katoda pada saat memasang target untuk menjamin kelancaran. sirkulasi air pendingin dan saluran masuk dan keluar tidak tersumbat.
Beberapa katoda direncanakan mempunyai ruang kecil dengan anoda, sehingga pada saat memasang target harus dipastikan tidak ada sentuhan atau penghantar antara katoda dan anoda, jika tidak maka akan terjadi korsleting.
Lihat Manual operator peralatan untuk informasi tentang cara mengoperasikan target dengan benar.Jika tidak ada informasi seperti itu dalam panduan pengguna, silakan coba instal perangkat sesuai dengan saran relevan yang diberikan oleh Gaozhan metal.Saat mengencangkan perlengkapan target, pertama-tama kencangkan satu baut dengan tangan, lalu kencangkan baut lainnya secara diagonal dengan tangan.Ulangi ini sampai semua baut pada perangkat dikencangkan, lalu kencangkan dengan sesuatu.
4、 Pemeriksaan hubung singkat dan kekencangan
Setelah perangkat target selesai, diperlukan untuk memeriksa korsleting dan kekencangan seluruh katoda,
Diusulkan untuk menentukan apakah ada hubungan pendek di katoda dengan menggunakan pengukur resistansi
Diskriminasi baris.Setelah memastikan tidak ada korsleting pada katoda, deteksi kebocoran dapat dilakukan, dan air dapat dimasukkan ke dalam katoda untuk memastikan apakah ada kebocoran air.
5、 Targetkan sebelum sputtering
Target pra sputtering mendukung sputtering argon murni, yang dapat membersihkan permukaan target.Ketika target sudah disemprotkan sebelumnya, disarankan untuk meningkatkan daya sputtering secara perlahan, dan tingkat peningkatan daya target keramik adalah 1,5WH/cm2.Kecepatan pra-sputtering target logam bisa lebih tinggi daripada blok target keramik, dan tingkat peningkatan daya yang wajar adalah 1,5WH/cm2.
Dalam proses pra sputtering, kita perlu memeriksa lengkungan target.Waktu pra sputtering umumnya sekitar 10 menit.Jika tidak ada fenomena busur api, tingkatkan daya sputtering secara terus menerus
Untuk kekuatan yang ditetapkan.Menurut pengalaman, kekuatan sputtering Z tinggi yang dapat diterima dari target logam adalah
25watt/cm2, 10watt/cm2 untuk target keramik.Silakan merujuk pada dasar pengaturan dan pengalaman tekanan ruang vakum selama sputtering dalam manual pengoperasian sistem pengguna.Secara umum, harus dipastikan bahwa suhu air di saluran keluar air pendingin harus lebih rendah dari 35 ℃, namun penting untuk memastikan bahwa sistem sirkulasi air pendingin dapat bekerja secara efektif.
Sirkulasi air supercooling yang cepat menghilangkan panas, yang merupakan jaminan penting untuk memastikan sputtering terus menerus dengan daya tinggi.Untuk target logam, umumnya disarankan menggunakan aliran air pendingin
Tekanan air 20lpm sekitar 5gmp;Untuk target keramik, umumnya disarankan aliran air 30lpm dan tekanan air sekitar 9gmp
6[UNK] Target pemeliharaan
Untuk mencegah korsleting dan busur api akibat rongga yang tidak bersih pada proses sputtering, maka perlu dilakukan pembuangan sputter yang terkumpul di bagian tengah dan kedua sisi jalur sputtering secara bertahap,
Hal ini juga membantu pengguna untuk terus melakukan sputtering pada kepadatan daya yang tinggi
7、 Targetkan penyimpanan
Target yang diberikan oleh logam Gaozhan dikemas dalam kantong plastik vakum dua lapis.Kami menganjurkan agar pengguna menyimpan target, baik logam atau keramik, dalam kemasan vakum.Secara khusus, target pengikatan perlu disimpan dalam kondisi vakum untuk mencegah oksidasi lapisan pengikat mempengaruhi kualitas pengikatan.Sehubungan dengan pengemasan target logam, kami menganjurkan agar Z dikemas dalam kantong plastik bersih
Waktu posting: 13 Mei-2022