Targetnya memiliki pasar yang luas, area aplikasi dan perkembangan besar di masa depan.Untuk membantu Anda lebih memahami fungsi target, di bawah ini teknisi RSM akan memperkenalkan secara singkat persyaratan fungsional utama target.
Kemurnian: kemurnian merupakan salah satu indikator fungsional utama target, karena kemurnian target mempunyai pengaruh yang besar terhadap fungsi film.Namun dalam penerapan praktisnya, persyaratan kemurnian target juga berbeda.Misalnya, dengan pesatnya perkembangan industri mikroelektronika, ukuran wafer silikon diperluas dari 6” menjadi 8″ menjadi 12”, dan lebar kabel dikurangi dari 0,5um menjadi 0,25um, 0,18um atau bahkan 0,13um.Sebelumnya, 99,995% kemurnian target dapat memenuhi persyaratan proses 0,35umik, sedangkan persiapan jalur 0,18um memerlukan 99,999% atau bahkan 99,9999% kemurnian target.
Kandungan pengotor: pengotor dalam padatan target dan oksigen serta uap air di pori-pori merupakan sumber polusi utama dari lapisan film yang diendapkan.Target untuk tujuan yang berbeda memiliki persyaratan yang berbeda untuk kandungan pengotor yang berbeda.Misalnya, target aluminium murni dan paduan aluminium yang digunakan dalam industri semikonduktor memiliki persyaratan khusus untuk kandungan logam alkali dan kandungan unsur radioaktif.
Kepadatan: untuk memperkecil pori-pori padatan target dan meningkatkan fungsi film sputtering, target biasanya memerlukan kepadatan yang tinggi.Kepadatan target tidak hanya mempengaruhi laju sputtering, tetapi juga mempengaruhi fungsi listrik dan optik film.Semakin tinggi kepadatan target, semakin baik fungsi film tersebut.Selain itu, kepadatan dan kekuatan target ditingkatkan sehingga target dapat lebih menerima tekanan termal dalam proses sputtering.Kepadatan juga merupakan salah satu indikator fungsional utama dari target.
Waktu posting: 20 Mei-2022