Kita semua tahu bahwa ada banyak spesifikasi target sputtering,yang memiliki awberbagai ide penerapan.TVarietas sasaran yang biasa digunakan di berbagai industri juga berbeda, hari ini ayo datang dengan BeijingRichmat bersama-sama untuk mempelajari tentang klasifikasi industri target sputtering.
一、Definisi bahan target sputtering
Sputtering adalah salah satu teknologi utama untuk menyiapkan bahan film tipis.Ia menggunakan ion yang dihasilkan oleh sumber ion untuk membentuk berkas ion dengan energi berkecepatan tinggi melalui agregasi yang dipercepat dalam ruang hampa. Permukaan padat yang dibombardir, ion dan atom permukaan padat memiliki pertukaran energi kinetik, sehingga atom pada permukaan padat meninggalkan padatan dan mengendap. Pada permukaan substrat, padatan yang dibombardir adalah bahan mentah untuk menyiapkan film yang diendapkan sputtering, yang dikenal sebagai target sputtering.
二、Klasifikasi bidang aplikasi bahan target sputtering
1、Target semikonduktor
(1)Bahan yang umum digunakan:Target umum dalam bidang ini meliputi tantalum, tembaga, titanium, aluminium, emas, nikel, dan logam dengan titik leleh tinggi lainnya.
(2)Penggunaan：Pada dasarnya digunakan pada data asli penting dari sirkuit terpadu
(3)Persyaratan fungsional：Persyaratan teknis mengenai kemurnian, ukuran, integrasi tinggi.
2、Bahan target untuk tampilan planar
(1)Bahan yang umum digunakan：Target yang biasa digunakan dalam bidang ini antara lain aluminium/tembaga/molibdenum/nikel/niobium/silikon/kromium, dll.
(2)Penggunaan：Bahan target semacam ini terutama digunakan dalam berbagai jenis film TV dan notebook area besar。
(3)Persyaratan fungsional：Persyaratan tinggi pada kemurnian, area yang luas, keseragaman dan sebagainya.
3、Target untuk sel surya
(1)Bahan yang umum digunakan：Target aluminium/tembaga/Molibdenum/kromium /ITO/Ta biasanya digunakan dalam sel surya.
(2)Penggunaan：Terutama digunakan dalam "lapisan jendela", lapisan penghalang, elektroda dan film konduktif dan kesempatan lainnya。
(3)Persyaratan fungsional：Persyaratan keterampilan tinggi, jangkauan penggunaan yang luas.
4、Bahan sasaran untuk penyimpanan informasi
(1)Bahan yang umum digunakan：Penyimpanan informasi umumnya menggunakan bahan target kobalt/nikel/ferroalloy/kromium/telurium/selenium.
(2)Penggunaan：Materi sasaran disini terutama digunakan untuk bagian head, lapisan tengah dan lapisan bawah cd-rom dan CD.
(3) Persyaratan fungsional：Kepadatan penyimpanan yang tinggi dan kecepatan transmisi yang tinggi diperlukan.
5、Bahan sasaran untuk modifikasi alat
(1)Bahan yang umum digunakan：Modifikasi alat dari titanium/zirkonium/kisi/paduan krom-aluminium dan target lainnya.
(2)Penggunaan:Biasanya digunakan untuk menyempurnakan penampilan.
(3)Persyaratan fungsional：Persyaratan fungsional tinggi, umur panjang.
6、Bahan sasaran untuk perangkat elektronik
(1)Bahan yang umum digunakan:Target paduan aluminium/silisida biasanya digunakan pada perangkat elektronik
(2)Penggunaan：Umumnya digunakan untuk resistor film dan kapasitor.
(3)Persyaratan fungsional：Ukuran kecil, stabilitas, koefisien suhu resistansi rendah
Waktu posting: 21 April-2022